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[삼성전자 10·31]②올해 시설투자 46.2조…사상 최대

  • 2017.10.31(화) 12:29

3분기까지 32.9조…4분기 13.3조
‘호황’ 반도체 V낸드·D램에 집중

삼성전자가 올해 총 46조2000억원에 달하는 공격적인 시설투자를 단행한다. 최근 ‘없어서 못 판다’는 반도체와 디스플레이 부문에 집중된 것으로 사상 최대 규모다. 

 

 

삼성전자는 31일 주력사업 강화를 위해 이 같은 내용의 올해 시설투자 계획을 발표했다. 올 들어 3분기까지 시설투자 규모는 32조9000억원으로 4분기 추가적으로 13조3000억원을 투자한다는 계획이다.

이 같은 시설투자액 46조2000억원은 역대 최대 규모로 종전 최대치인 지난해(25조5000억원)와 비교하더라도 무려 81.2% 증가한 것이다.

부문별로는 반도체 29조5000억원, 디스플레이 14조1000억원, 생활가전·의료기기·무선사업부 2조6000억원이다.

반도체와 디스플레이에 집중된 것은 반도체 ‘슈퍼 호황’과 사상 최대 영업이익을 기반으로 주력 부문에 공격적인 투자를 단행함으로써 2위와의 격차를 더욱 벌리겠다는 전략으로 분석된다.

삼성전자는 올 들어 ‘기록 파괴자’로 변신하면서 3분기까지 영업이익으로 38조5000억원을 벌어들였다. 이에 따라 올해 총 50조원이 넘는 사상 최대치인 55조원의 영업이익이 예상되고 있다. 



세부적으로는 반도체 메모리의 경우 V낸드플래시의 수요가 증가하고 있는 데에 따른 대응책으로 평택공장 1라인을 증설하는 데 집중한다. D램 미세공정 전환을 위한 투자도 진행 중이다. V낸드플래시는 주로 휴대전화와 디지털카메라 데이터 저장장치로 사용되는 메모리 반도체다.

설계를 마친 반도체를 생산하는 사업인 파운드리 부문에 대한 투자는 10나노 공정 생산라인을 늘리는 데 집중하고 있다. 디스플레이는 접히는 올레드(Flexible OLED) 패널 생산라인을 확대하는 작업을 실시하고 있다.

삼성전자 관계자는 “올해 4분기 중에는 상당 부분이 반도체 사업에 투자될 예정”이라며 “주로 신규부지 조성과 클린룸 공사 등 인프라 구축에 투자할 계획”이라고 말했다.

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