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SK하이닉스, 中 우시 신공장 가동

  • 2019.04.18(목) 14:19

9500억 투입해 준공…D램 생산 시작

이석희 SK하이닉스 대표이사가 18일 중국 우시에서 열린 SK하이닉스 중국 우시 확장팹(C2F) 준공식에서 환영사를 하고 있다./사진=SK하이닉스 제공

SK하이닉스의 중국 우시 신공장이 본격 가동에 들어갔다.

SK하이닉스는 18일 중국 장쑤성 우시에서 메모리 반도체 확장팹(C2F) 준공식을 열었다고 밝혔다.

이 자리에는 리샤오민 우시시 서기, 궈위엔창 장쑤성 부성장, 최영삼 상하이 총영사, 이석희 SK하이닉스 대표이사 등 약 500명이 참석했다.

우시에는 SK하이닉스가 2006년부터 D램 생산을 시작한 공장(C2)이 있다.

하지만 반도체 미세화 추세로 공정수가 늘고 장비의 대형화가 이뤄지면서 공간이 부족해지자 SK하이닉스는 2016년 생산라인 확장을 결정했다. SK하이닉스가 이번 신공장 건설에 투입한 금액은 총 9500억원에 이른다.

신공장은 건축면적 5만8000㎡(1만7500평)의 단층으로 돼있다. 길이 316m, 폭 180m, 높이 51m로 기존 C2 공장과 비슷한 규모다.

SK하이닉스는 신공장의 일부 클린룸 공사를 완료하고 장비를 입고해 D램 생산을 시작했다. 향후 추가적인 클린룸 공사와 장비입고 시기는 반도체 시황에 따라 탄력적으로 결정할 예정이다.

강영수 SK하이닉스 우시팹담당 전무는 "C2F 준공을 통해 우시 팹의 중장기 경쟁력을 확보했다"며 "기존 C2 공장과 '원 팹(One FAB)'으로 운영해 우시팹의 생산∙운영 효율을 극대화할 것"이라고 말했다.

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