이재용 부회장이 지난해 시스템 반도체 세계 1등에 등극하겠다는 선포식을 가졌던 화성사업장을 다시 찾았다.
삼성전자는 20일 이 부회장이 화성사업장을 찾아 극자외선(EUV) 전용 반도체 생산라인을 직접 살펴보고 임직원들을 격려했다고 밝혔다. 이 부회장이 공개 행보로 화성사업장을 찾은 것은 올해만 두 번째다.
이 부회장이 방문한 'V1 라인'은 삼성전자의 첫 EUV 전용 라인이다. 삼성은 2018년 초부터 착공에 들어가 지난해 말 완공하기까지 V1 라인에 60억달러(약 7조원)를 들였다. 이 라인은 최근 반도체 회로 선폭이 7나노(㎚) 이하 반도체 생산에 돌입했고, 앞으로 차세대 파운드리(반도체 위탁생산) 제품을 주력으로 생산할 계획이라고 회사는 설명했다.
V1 라인은 이 부회장에게도 각별하다. 지난해 4월 이 부회장이 문재인 대통령과 만나 발표한 시스템반도체 1위 등극 프로젝트 '반도체 비전 2030' 전초기지기 때문이다. 삼성은 2030년까지 이미지센서, 스마트폰 두뇌 애플리케이션 프로세서(AP) 등에 133조원을 투자한다는 청사진을 내놨다. V1 라인은 EUV를 필두로 시스템 반도체 등의 회로 선폭 미세화를 책임진다.
반도체는 회로를 미세하게 그릴수록 이점이 많다. 선폭이 좁아지면 회로를 수놓는 전자 간 거리가 짧아져 제품속도가 빨라지는 동시에 소비전력도 줄어든다. 또 제품 크기도 작아져 반도체 원판 하나당 생산 가능 제품도 많아진다.
EUV는 현재 대다수 반도체 제작사가 쓰는 불화아르곤(ArF)보다 투과하는 빛의 파장을 짧게 하는데 유리해 현미경을 통한 초점 심도가 더 깊어져 미세한 선폭을 긋는데 유리하다.
이 부회장은 "지난해 우리는 이 자리에 시스템반도체 세계 1등의 비전을 심었고, 오늘은 긴 여정의 첫 단추를 꿰었다"며 "이곳에서 만드는 작은 반도체에 인류사회 공헌이라는 꿈이 담길 수 있도록 도전을 멈추지 말자"고 말했다.
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