일본 도시바가 SK하이닉스를 대상으로 제기했던 1조1000억원 규모의 소송이 취하된다. 또 양사는 차세대 노광 공정기술 공동개발에 나서기로 했다.
SK하이닉스는 19일 일본 도시바와 나노임프린트 리소그래피(NIL, Nano Imprint Lithography) 기술 공동 개발에 나선다고 밝혔다.
또 지난 3월 도시바가 SK하이닉스를 상대로 제기한 약 1조1000억원 손해배상 규모의 민사소송도 모두 취하될 예정이라고 설명했다. 합의금액은 미화 2억7800만 달러다.
도시바는 일본 검찰이 전 SK하이닉스의 직원인 스기다를 부정경쟁방지법 위반 혐의로 기소하자, SK하이닉스가 도시바의 정보를 활용했다며 민사소송을 제기한 바 있다.
SK하이닉스와 도시바가 공동개발에 나서는 NIL 기술은 미세 패턴을 구현하는데 있어 적합한 차세대 리소그래피 공정기술로 평가받고 있다. 막대한 투자가 선행돼야 하는 기존 공정기술과 비교해 경제적인 양산이 가능하다는 장점도 있다.
이번 공동개발을 통해 차세대 공정기술인 NIL 개발 성공 가능성을 높이고, 제품 양산을 통한 상용화를 기대할 수 있을 것으로 예상하고 있다. 또 제품 양산시 원가경쟁력도 향상시킬 수 있다.
SK하이닉스와 도시바는 기존 반도체 특허 상호 라이선스와 제품 공급 계약도 연장해 특허 분쟁으로 인한 사업 불확실성을 완화했고, 안정적인 판매 기반을 유지하게 됐다.
SK하이닉스는 그동안 도시바와 오랜 협력 관계를 유지해왔다.
2007년에는 특허 상호 라이선스 계약을 체결한 바 있으며, 2011년부터는 차세대 메모리인 ‘STT-M램’의 공동개발을 진행하고 있다. 또 도시바 외에도 IBM, HP와도 ‘PC램’과 ‘Re램’을 공동 개발하는 등 다양한 업체들과의 협력을 통해 미래 사업 역량을 지속적으로 확충하고 있다.
